Siliciure de cobalt, CoSi2

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Siliciure de cobalt, CoSi2

La formule chimique CoSi2. Le poids moléculaire est de 115,11. Cristal orthorhombique brun foncé. Le point de fusion est de 1277 ℃ et la densité relative est de 5,3. Il peut être oxydé à 1200 ℃ et éroder sa surface;


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Disilicide de cobalt
La formule chimique CoSi2. Le poids moléculaire est de 115,11. Cristal orthorhombique brun foncé.
Le point de fusion est de 1277 ℃ et la densité relative est de 5,3. Il peut être oxydé à 1200 ℃ et éroder sa surface;

Il réagit avec le chlore à 300 ℃. Il est érodé par le fluorure d'hydrogène, l'acide nitrique dilué et concentré et l'acide sulfurique, et peut également être sévèrement érodé par un alcali fort fondu. Il agit lentement avec de l'acide chlorhydrique concentré chaud bouillant. CoSi2, avec une faible résistivité et une bonne stabilité thermique, est largement utilisé comme contact dans le LSI. De plus, CoSi2 a une structure cristalline similaire à celle du Si, de sorte qu'il peut former une structure CoSi2 / Si épitaxiale sur un substrat en Si pour étudier les caractéristiques d'interface du silicium métallique épitaxial. Les nanostructures de siliciure ont des applications potentielles dans une série de domaines de la nanoélectronique: les nanostructures de siliciure semi-conductrices (FeSi2) peuvent être utilisées pour préparer des nano dispositifs électroniques actifs, qui peuvent avoir des applications très importantes dans les nano dispositifs émetteurs de lumière à base de silicium; et les siliciures métalliques (CoSi2, Nisi2) peuvent être utilisés comme nanofils dans les ordinateurs quantiques et les nano-circuits térahertz tolérants aux pannes à l'avenir. Du fait que les fils de siliciure épitaxiaux peuvent être préparés sur des substrats de silicium, leurs propriétés seront grandement améliorées par rapport aux nanofils métalliques ordinaires car il n'y a pas de limite de grain; métallique


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