Poudre de siliciure de titane, Ti5Si3

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Poudre de siliciure de titane, Ti5Si3

Ti5Si3 a un point de fusion élevé (2130 ℃), une faible densité (4,65 g / cm3) et d'excellentes propriétés à haute température telles que la dureté à haute température, une bonne stabilité à haute température et une résistance à l'oxydation, de sorte qu'il devrait être utilisé pour les matériaux structurels à haute température ci-dessus 1300 ℃.


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>> Présentation du produit

Formule moléculaire  Tasi2
n ° CAS  12067-56-0
Densité  9,14 g / cm3
Point de fusion  2 200 "C
Application  pour le siliciure de tantale a un point de fusion élevé, une faible résistivité, une résistance à la corrosion, une résistance à l'oxydation à haute température et du silicium, le matériau de la matrice de carbone présente d'excellentes propriétés telles qu'une bonne compatibilité, comme le matériau de la grille, des lignes de connexion de circuit intégrées, un revêtement de résistance à l'oxydation à haute température, etc., dans l'élément chauffant électrique , le domaine des pièces de structure à haute température et des appareils électroniques plus largement la recherche et l'application

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>> Données connexes

Propriétés et application de Ti5Si3:
Ti5Si3 a un point de fusion élevé (2130 ℃), une faible densité (4,65 g / cm3) et d'excellentes propriétés à haute température telles que la dureté à haute température, une bonne stabilité à haute température et une résistance à l'oxydation, il devrait donc être utilisé pour les matériaux structurels à haute température ci-dessus 1300 ℃. Le point de fusion du Ti5Si3 est proche ou même supérieur à celui des céramiques structurelles à haute température, mais sa densité est bien inférieure à celle de certaines céramiques structurelles à haute température et alliages à haute température, qui est similaire aux alliages de titane et a le potentiel d'être utilisé à haute température. De plus, en raison de sa faible résistance et résistance thermique, Ti5Si3 est également prometteur pour les structures de connexion électrique et les couches de barrière de diffusion.

>> FDS

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